硅微粉在紅外光學的價值

文章來源：http://m.dyqzzz.cn 發布時間：2022-04-26 瀏覽次數：138

硅微粉在光學薄膜的價值與折射率是與工藝條件密切相關的，因此要針對特定的工藝條件來測定折射率分布狀況。例如在185℃、3×10-3 Pa、沉積速率為0.2 nm/s的條件下，通過單層膜試驗，可以利用分光光度法測定Si 在0.5 μm~5 μm 波段范圍內的折射率。硅微粉制成的硅膜在紅外光學薄膜中具有很高的應用價值，尤其是能夠簡化反射膜以及光譜特性要求復雜的膜系，減少膜層數目和膜層厚度，拓展反射帶。電子束沉積是目前光學薄膜制備過程中的主流方式，在力求與其他膜料的工藝匹配的原則上，文中確定了電子束沉積Si 膜時的溫度、真空度，利用石墨坩堝獲得了穩定的沉積速率，在此基礎上利用分光光度法測定了Si 在0.5 μm~5 μm 波段范圍內的折射率分布曲線，對硅微粉在紅外薄膜中的應用具有一定的借鑒意義。