硅微粉在紅外光學領域的市場前景

文章來源：http://m.dyqzzz.cn 發布時間：2022-04-29 瀏覽次數：116

因為硅微粉的物理特性，在光學薄膜設計中的應用特點。對電子束沉積硅薄膜時的溫度、真空度進行確定，并對其沉積速率的穩定性以及石墨坩堝的使用方法進行研究。利用分光光度法測定了硅膜在0.5 μm~5 μm 波段范圍內的折射率分布曲線。再針對光學薄膜的設計，可以根據使用要求有目的地改變光譜的傳輸特性。光學薄膜的膜系設計主要包括膜層折射率和膜層厚度兩個方面，其中膜層折射率的設計實際上就是對薄膜材料的選取，是膜系設計的前提。薄膜材料要求有比較穩定的折射率，還要滿足光譜透明度、機械牢固度和化學穩定性以及抗高能輻射等對薄膜材料的基本要求。這就使得光學薄膜材料種類,尤其是能夠適用于紅外波段的薄膜材料種類非常有限。由于硅微分具熔點高、熱傳導性能好、硬度高、化學穩定性強等特性，因而是一種非常重要的半導體材料，其優越的理化特性和光學特性使得硅微粉在光學薄膜的紅外波段的應用前景非常廣闊。